UV干式光清洗特點
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文章出處:萬志宇責任編輯:HE
發表時間:2016-09-23 15:00:00
UV干式光清洗特點:
1、大氣中處理,簡單方便,環保無二次污染,無需加熱、藥液等處理。
2、清潔度極高,單分子層以下,可以得到從來處理方法難以想象的清潔度、接著性
3、國內獨有的超高出力短波長紫外線光源,僅需短時間(秒單位)照射,發揮強大的處理能力,從實驗室進入實用。
4、不對材料的表面產生損傷。
5、相對于濕式清洗或等離子清洗成本低。
6、沒有液體表面張力的影響,超微細部的清洗容易。
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